第207章 最起码的尊重 (第3/3页)
，声音都在发抖。
“林总。”
“已经可以了。”
一向最沉得住气的林伟，此刻坐在他对面，手里拿着一张打印出来的系统状态报告。
他的手也在抖。
“走。”
林伟站起身，只说了一个字。
张默立刻领着他，快步朝着一号验证舱走去。
很快验证舱的双重气密门打开了，林伟走了进去，张默紧随其後。
此时验证舱里的人都是国威装备的自己人。
国威装备光刻总体设计部的首席工程师。
曾经主导过华夏第一台自主浸没式光刻机整机联调的贺老。
以及流体力学与流场控制组的组长。
从七机部退下来以後又被返聘过来的赵老，他已经八十二岁了，头发全白，但眼里依然有光。
还有几位名声不显，但履历随便拎一份出来都能让国内半导体圈地震的人
一共十九个人。
全部站在那台浸没式光刻机的主控台前。
没有人说话。
整个验证舱里，只能听见主控台上那几十台显示器的风扇声，和十九个人呼吸声。
所有人的目光，都盯着前方那块最大的主显示屏上。
显示屏里是浸没腔内部的实时流场可视化渲染。
以前这里是一片的混沌，里面充满了旋涡、湍流、温度梯度的复杂图案。
但现在。
在李东那套2.1版本降维算法的驱动下，那片混沌被解构成了一组一组的彩色条纹。
每一条条纹，都是算法在谱空间里识别出来的一个低维不变子空间基底。
所有原本应该狂野乱窜的高频振荡项，在这些基底的正交性下被悄无声息地消去。
就像有一只手，从最底层的数学结构里，把湍流这只野兽按进了一个笼子。
主显示屏下方：
【曝光焦面偏差：-0.07nm】
【迭层对准误差：0.11nm】
【算法前馈响应时间：1.8μs】
0.11纳米的对准误差。
这个数字的意义，林伟看得懂，张默看得懂，舱里那十九个人都看得懂。
这已经是ASML最新一代NXE系列EUV光刻机的工程化水平。
而这，是一台浸没式DUV。
是他们用一台物理原理上低一个代的机器，靠着一套算法，硬生生把光刻精度拉到了高一个代际的水平线上。
“第七次了。”
有人在林伟身後低声说了一句。
“前六次都成功了。”
“这是第七次验证。”
“贺老说，要连续成功十次以上，才能算是……稳定落地。”