第四百二十九章：预热 (第2/3页)
好几十年的“深紫外线光源”技术，则是这位大佬在1975年所做出，在当时是光刻技术最短波长的光线。
能够带领IBM公司的光刻工艺制程团队攻坚的人物，全球范围之内，敢说专精于此项技术的绝不超过十人，林本坚则是在这排名当中很靠前的神级人物。
在上位面，也是在1992年，这位选择加入台积电，用他当时所掌握的世界最前沿工艺制程技术带着台电一路发展壮大，并依靠独门绝学“侵润式光刻技术”带领台电实现三级跳，在2000年之后，最终成为世界最顶级的半导体集成电路代工厂。
那么现在这位面就不一样了，诸如台电这种单位，它比起更加金光闪闪的开阳半导体来说，简直就是弱鸡好不好。
还更不用说IBM公司本就和开阳半导体算是一条战壕里面，关于开阳半导体公司的大致情况，林本坚所知还真不要太少，在听说开阳方面卡在了0.5微米工艺时候，便主动提出可以提供技术方面的咨询。
如此直白地表达，开阳那边要是还感觉不出来，虞有澄这CEO也差不多可以直接下课算了。
在经过短暂了解过后，看到虞有澄这个前任英特尔公司微处理器产品部门大总管直接当上开阳半导体的CEO，而这两位实际也都是从IBM-PC时代过来的老朋友了，现在也是没的说，一起干！
按照汪正国同虞有澄、林本坚，还有包括国内刚扶持起来的两大光刻机厂商一起坐下来商量的结果，林本坚将全面负责开阳半导体生产工艺革新工作，名誉上是仅次于倪光南总工。
但就实际而言，林本坚、白斯文、孟怀英、倪光南，这四人地位其实都算同一层次。
再往下，则是另外一位负责半导体工艺中电路结构设计的梁孟松，他所从事研究工作属于半导体工艺当中更细分之后的部分，虽然很重要、很关键，但大体还是要归林本坚所管辖。
在半导体芯片设计方面，倪光南总工负责抓总体，白斯文教授做CMOS光学传感芯片、孟怀英做射频芯片，负责微处理器设计的人反而是巴基斯坦籍工程师：拉沙。
拉沙现在还没有做出创造性的技术，旁边梁孟松也是如此，所以这两人距离最顶尖四位大佬还差那么半级
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