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第1591章 新材料合成法

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    第1591章 新材料合成法 (第2/3页)

料学仍然主要靠试错。

    以这个效率,猴年马月才能试出个有效结果?

    就在这时,桌上的加密电话忽然响起。

    从分机号上看,是火炬实验室的专线。

    常浩南接起电话:“我是常浩南。”

    “老师,是我,栗亚波。”电话那头响起栗亚波的声音,“我已经完成了外延生长法的理论建模和工艺参数设定,正在工艺实验室进行第一轮合成测试,您看……什么时候方便过来看一下?”

    常浩南看了看日程表,下午恰好有个空档。

    “下午四点左右吧……你尽快安排,争取我过去的时候能看到第一批样品的初步结果。”

    ……

    当天,傍晚时分。

    当常浩南走进栗亚波所在的高纯度材料合成实验室时,空气中还残留着淡淡的真空泵油和高温烧结后的特殊气味。

    栗亚波正坐在工位上,一边休息一边等待分析报告送过来。

    看见常浩南进来,他立刻起身:

    “老师,您来了!样品刚送去表征,报告还在生成。”

    “进度抓得不错。”常浩南点点头,称赞道。

    分子束外延这条技术路线是绝对没问题的。

    但要想在短短几个月时间里拿出成果,必定还得向其中倾注大量心血。

    “算是走了点捷径吧。”栗亚波谦逊地回答道,“半导体生产领域已经有了推广分子束外延工艺积累的经验,尤其是III-V族半导体晶体,像氮化硼,现在工艺已经比较成熟,甚至已经开始替代传统沉积法了……”

    常浩南走到实验室电脑前,看着上面的工艺流程图:

    “启发归启发,半导体材料的外延生长和金属单原子层的外延生长,环境要求和物理机制差别很大……你肯定也不是照搬的。”

    说到这里,他突然觉得有些感慨。

    类似的对话,当年在自己和杜义山之间发生过无数次。

    而如今,身份调转。

    “这个倒是。”栗亚波点头,走到电脑旁,熟练地打开了一项分子动力学工程文件,“所以我对衬底和生长材料的界面结合机制做了关键调整……主要是放弃传统的强化学键连接,选择范德华力作为主要的层间相互作用力。”

    他指着屏幕上放大的原子结构模型:

    “您看,这个镉基的Cd(0001)衬底是一种严格的二维材料,表面没有悬挂键。也就是说,它不受晶格常数必须严格匹配的限制。”

    屏幕上,Cd(0001)晶面的原子排列清晰可见,表面光滑平整。

    栗亚波继续解释,“所以,可以像搭积木一样,把不同性质的材料堆垛上去,最终形成形成类似绳结的稳定结构,而每一层都仍然保持各自的性质。”

    常浩南此时正在检查工程文件里面的计算过程,但还是很快理解了对方的思路:

    “层内是强化学键保证材料本征性质,层间是较弱的范德华力保证堆垛的灵活性和可分离性……你后续还准备用机械剥离法或者液相剥离法来分离单层材料?”

    “没错!”栗亚波见老师完全理解,脸

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