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第254章 厂会发难

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    第254章 厂会发难 (第1/3页)

    “那我等会和刘厂长说一下吧。”

    赵成辉想了一下后,开口说道:“如果咱们接下来的研发目标一致,那确实可以组成研发小组,共同完成项目突破

    不过志强同志,你要哪些人?”

    “可以随便点名吗?”

    周志强闻言后顿时笑着说道:“那我不客气了,上次加入项目组的技术人员我都需要.”

    “你停下吧,我让你挑几个人,没让你把技术科打包带走,这样瑞光同志非掐死我!”

    赵成辉打笑后,又在技术科内环视了一圈,随后开始说道:“林工,王工,还有李工,你们三人跟我一起,以及丁甜甜、王立东”

    一口气点了三十多个人名后,赵成辉才算停下来。

    “.我刚才点名的同志们,准备一下,等我和刘厂长汇报后,咱们就跟周厂长去九州机床总厂的数控分厂,一块进行研究合作。”

    技术科内刚才被点名的人开口道:“知道了,赵副厂长。”

    “明白,等厂里命令下来了,我立刻动身。”

    “又能和周厂长一起并肩作战了”

    技术科内的人纷纷说道,还有说周志强的,上次他们和周志强一起搞研发突破,感觉是真顺利。

    以前不是没组建过科研小组,但都会遇到很多卡住项目进度、各种各样的问题。

    但是周志强加入进来后,他们在研发效率上异常的快,而周志强也经常会提出突破卡克的关键点。

    周志强闻言后笑着跟技术科其他人摆手,随后对赵成辉说道:“谢谢你了成辉同志,那咱们现在就去找刘厂长?”

    “先不着急,今天我肯定帮你跟瑞光同志说了,你先来看看这个。”

    赵成辉拿出一份记录文件,递给周志强后说道:“我们讨论了半天,虽然讨论出几个方向,但还没确定从哪下手。

    志强,你在半导体方面的研究也不弱,你有什么看法.”

    周志强接过来一看,上面密密麻麻的记录着各种关于温度、转速、时间参数下的角膜厚度测量值和均匀性标准差

    看得出来是做过不少次计算实验,但实验数值都不太理想,提升不大。

    而且赵成辉他们下一步应该是想琢磨改进涂胶设备或者胶体配方,但这个方向试验计算了不少,始终没什么成果。

    光改进这一个方向,就算成功了,提升也不会特别大。

    “方向可以换一个,成辉同志,或许你们可以从光刻的接触方式,原有的掩膜版和光刻胶的物理接触会摩擦损伤掩膜版的寿命。

    灰尘颗粒也会导致生产缺陷,胶膜更是在压力下变形,这些都是限制精度提升的原因,或许可以尝试分离开一段距离,但是不接近.”

    周志强将接下来准备研发的项目方向,详细的跟赵成辉他们讲了另一种光刻工艺。

    上次他想说来着,不过那时候时间紧任务重,能将硅晶管制造出来已经很不错了,之后还有集成电路要研发制造,所以光刻工艺就没关。

    但现在想要制造出专属复合加工数控机床的集成数控系统,就要高性能的集成电路.光刻工艺的提升也是避不可免的。

    周志强一边说还一边拉过来一份黑板,一边说一边给技术科内的所有人示意起大致原理。

    “改变接触方式?不接触怎么曝光,而且光纤穿过掩膜版的缝隙,光就会发生衍射”

    林工开口问道:“这个距离怎么控制,恐怕只有十几微米到几微米之间吧,周厂长,不容易实现吧?”

    “是不容易,但不是完全不可能,而且用这种光刻工艺,哪怕精度只有一小部分进度,但却可以在生产效率上大大提升”

    也不太需要追求极致到几微米的精度,现在确实实现不了,但只要比之前的精度有提升就行。

    他们可以一步一步的提升,但这个光刻工艺可以凭借高精度的机械系统,实现半自动化生产,单单生产效率就能提升几十倍甚至更多。

    周志强还有点私心,那就是新研发出来的光刻工艺也用在数控分厂。

    以后数控分厂能发

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